正置金相顯微鏡

KMM-200M正置金相顯微鏡特點：

■采用平場消色差光學系統和落射式柯拉照明系統，同時在落射照明系統中設計防反射結構，有效防止反射光干擾成像光線，從而使成像更清晰、視場襯度更好。

■提供穩定可靠的操作機構,使成像更清晰,操作更簡便。

■顯微鏡鏡體采用全新的人機工程學設計，結構勻稱，實現鏡體擴展積木化。

■工作臺、光強與粗微調的低位操作，提高了使用的舒適性。

■廣泛應用于各類半導體硅晶片檢測、材料科學研究、地質礦物分析及精密工程等學科領域。

KMM-200M正置金相顯微鏡技術規格：

光學系統	有限遠色差校正光學系統
觀察筒	鉸鏈式雙目，30°傾斜，360°旋轉，瞳距調節范圍：54-75mm，雙邊±5屈光度可調；鉸鏈式三目，固定式分光比，雙目:三目=80%:20%
目鏡	PL10X高眼點平場目鏡，線視場:18mm
物鏡	長工作距平場消色差金相物鏡5X、10X、20X、50X、100X
轉換器	內定位四孔轉換器內定位五孔轉換器
調焦機構	粗微調同軸，帶機械上限位和松緊調節裝置,粗調行程28mm，微調精度0.002mm
載物臺	雙層機械移動平臺,附設180X145mm平板平臺,移動范圍：76mmX50mm
照明系統	反射式柯拉照明，自適應寬電壓90V-24V，6V/30W鹵素燈，光強連續可調,帶可變孔徑光闌與視場光闌,視場光闌中心可調
攝影裝置	攝影接筒（帶PK卡口），3.2X攝影目鏡
攝像裝置	0.35X/0.5X/1.0X,C型攝像接筒
其他可選功能	簡易偏光 6V30W透射照明系統

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簡要描述：工業檢測正置金相顯微鏡用優良的無限遠光學系統與模塊化功能設計理念，可以方便升級系統，實現偏光觀察, DIC觀察等功能，導柱升降裝置，可以快速調整工作臺與物鏡之間的距離，適用于不同厚度工件檢測。

簡要描述：工業檢測 正置金相顯微鏡用優良的無限遠光學系統與模塊化功能設計理念，可以方便升級系統，實現偏光觀察, DIC觀察等功能，導柱升降裝置，可以快速調整工作臺與物鏡之間的距離，適用于不同厚度工件檢測。